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Veröffentlicht im Mai 2015 | Version v1
Dissertation Offen

Entwicklung polymerbasierter Antireflexionsschichten zum Einsatz in der Photolithographie

ErstellerInnen

  • Fimberger, Martin (aut)
25000_6363_fimberger_martin_2015.pdf
Dateien (8.0 MB)
Name Größe
25000_6363_fimberger_martin_2015.pdf
md5:6c95f94d51bdfc73e2d07b36318fffc5
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Erstellt: 12. August 2022 | Bearbeitet: 27. Mai 2025
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10.3217/83g0r-pdt59
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10.3217/83g0r-pdt59

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[![DOI](https://repository.tugraz.at/badge/DOI/10.3217/83g0r-pdt59.svg)](https://doi.org/10.3217/83g0r-pdt59)

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Target URL 

https://doi.org/10.3217/83g0r-pdt59
Name: Fimberger, Martin
Titel: Entwicklung polymerbasierter Antireflexionsschichten zum Einsatz in der Photolithographie
Ressource-Typ: Dissertation
Veröffentlicht: Mai 2015
Sprache: ger

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