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Veröffentlicht im 2011 | Version v1
HS-DIPL Offen

Design und Optimierung eines Klarlacks für Anwendungen in der Halbleitertechnologie

ErstellerInnen

  • Ellmaier, Lisa (aut)

136786_ellmaier_lisa_2011.pdf
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Name Größe
136786_ellmaier_lisa_2011.pdf
md5:f4b257228c745ee37bcecf63fd9ed608
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Erstellt: 12. August 2022 | Bearbeitet: 27. Mai 2025
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10.3217/w5gp2-8dm59
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10.3217/w5gp2-8dm59

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https://doi.org/10.3217/w5gp2-8dm59
Name: Ellmaier, Lisa
Titel: Design und Optimierung eines Klarlacks für Anwendungen in der Halbleitertechnologie
Ressource-Typ: HS-DIPL
Veröffentlicht: 2011
Sprache: ger

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